В России создали плазмохимическую установку для кремниевых пластин на 300 мм

Команда инженеров Научно-исследовательского института точного машиностроения (НИИТМ) создала первую в России установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм.Запорожское агентство новостей

Благодаря ей можно производить отечественные микросхемы для электроники, пишут «Известия» в четверг, 20 марта.Профиль

ПХО — один из ключевых процессов в производстве микросхем.Ferra

Создание нового оборудования позволит повысить технологический суверенитет России.Профиль

Оставьте комментарий